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- [技術(shù)支持]石英晶振激光刻蝕圖行的介紹以及特點(diǎn)分析2018年03月27日 09:13
用激光刻蝕圖形,把石英晶振晶片表面電極層部分完全剝落的方法,其優(yōu)點(diǎn)首先在于頻率微調(diào)量大,大氣中即可達(dá)到2000pm以上的頻率微調(diào)量。
其次,刻蝕圖形的方法,可以對(duì)石英貼片晶振晶片一面進(jìn)行加工,而實(shí)現(xiàn)兩面同時(shí)同剝落其次,刻蝕圖形的方法,可以對(duì)晶片一面進(jìn)行加工,而實(shí)現(xiàn)兩面同時(shí)同剝落。
第三,由于在生產(chǎn)過(guò)程中,石英貼片晶振晶片表面的電極層是靠掩膜鍍敷到晶片表面上的, 在掩膜的過(guò)程中,邊緣處會(huì)產(chǎn)生散射,使得沉積在晶振晶片上的銀層邊界線不夠清晰有部分散射銀殘留的現(xiàn)象,同時(shí)也會(huì)影響晶振晶片的Q值。用激光刻蝕圖形的方法, 對(duì)晶片邊緣進(jìn)行加工,便可以清除邊界殘留銀層,使得晶片表面銀層清晰于凈, 時(shí)提高晶片的Q值。
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